SU-8 5光刻胶的应用工艺研究

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SU-8系列负性光刻胶是一种新品光刻胶,它具有良好的光敏性和高深宽比,适合于微机电系统,UV-LIGA和其它厚膜、超厚膜应用[1,2].介绍了利用SU-8 5光刻胶,采用UV曝光制备LIGA掩模板所涉及的SU-8 5工艺研究结果.
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