正脉冲电镀法制备φ33mm模拟镍源

来源 :原子能科学技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dark_hu
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mA量级直流恒流电源具有过保护电压较低的缺点,不适于制作大面积、高活度63 Ni放射源。本文以正脉冲电源为解决方案,系统研究在简单组分的镀镍溶液中,各工艺条件对电镀结果的影响。研究结果表明,在阴极电流密度为18mA/cm2、室温、脉宽80%、频率5kHz条件下电镀2.5h,可获得95%以上的58 Ni沉积率。
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