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利用直流与射频磁控溅镀在二氧化硅基板上共沉积制作Co-Ti-O颗粒合金单层薄膜,并通过适当热处理,使薄膜为Co及TiOx混合结晶相.单层颗粒合金薄膜Co59.78Ti16.5O23.7/SiO2试片经1000 ℃热处理10 min,磁阻率为0.8%,而Co27.95Ti19.33O52.72/SiO2试片经1000 ℃热处理10 min,磁阻率高达4%.