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通过微波等离子体化学气相沉积技术（MWPCVD），以富勒烯（C60）甲苯饱和溶液为碳源，用载气携带的方式通入反应腔中生长金刚石膜。Raman光谱、SEM和AFM表征结果表明得到的超纳米晶金刚石薄膜相组成纯度较高，其平均晶粒尺寸约为15nm，表面粗糙度为16．56nm，薄膜平均生长速率约为0．6μm／h。此方法较其他以C60为碳源生长超纳米晶金刚石薄膜的方法更为简便，且容易控制富勒烯碳源的浓度，沉积速率更高，是一种新型的制备超纳米晶金刚石薄膜的可控工艺方法。