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针对帧转移可见光CCD低光照响应、抗电晕能力和动态范围,较详细讨论了CCD光响应灵敏度、动态范围和抗电晕的设计与计算.设计的具有抗晕功能CCD,采用2 μm工艺制作,达到了设计技术指标要求,满足了工程应用需求.
低光照和抗晕CCD的设计和制作
【摘 要】
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针对帧转移可见光CCD低光照响应、抗电晕能力和动态范围,较详细讨论了CCD光响应灵敏度、动态范围和抗电晕的设计与计算.设计的具有抗晕功能CCD,采用2 μm工艺制作,达到了设计
【机 构】
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重庆光电技术研究所
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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2003年2期
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