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介绍近年来半导体工业中超纯水制备工艺的特点和发展,包括纯水回收系统、EDI技术、膜接触器技术等。
半导体工业中超纯水制备工艺的特点和发展
【摘 要】
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介绍近年来半导体工业中超纯水制备工艺的特点和发展,包括纯水回收系统、EDI技术、膜接触器技术等。
【机 构】
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中国电子工程设计院
【出 处】
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洁净与空调技术
【发表日期】
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2001年04期
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