提高氟化镁膜层牢固度的方法

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<正> 做为增透膜和其它的多层膜中的低折射率膜层材料——氟化镁已取得了广泛的应用。氟化镁很容易用钽、钨和钼舟蒸发,也可以用电子束加热的方法蒸发。实践表明,在真空中往不加热的基底上淀积的氟化镁膜层,有很高的孔隙率,因此,机械强度很低(Ⅲ级牢固度),抗潮性能很差。为了提高氟化镁膜层的致密程度,基底要加热到300℃才行。但是在某些情况下,尤其是有些精密的光学表面是不希望加热的,甚至是不允许加热的。此外,基底在镀膜之前加热、镀制后冷却都需要一定的时间,这势必要延长真空
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