用X射线光电子能谱对热处理的四苯基钴卟啉修饰电极的表面表征

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本文用XPS、DTA和TG分析了四苯基钴卟啉化学修饰电极的热分解行为,它不同于四苯基铁卟啉.由XPS谱图揭示了四苯基钴卟啉与玻璃碳电极之间的相互作用,进而阐述了经热处理的四苯基钴卟啉化学修饰电极的表面结构与电催化稳定性的关系.从Co2p_3/2和2p_(1/2)能级的自旋分裂间距及其Shake-up伴峰,了解经热处理后的四苯基钴卟啉修饰电极中钴自旋态变化,并且从Co的L_3VV俄歇跃迁计算出Co的双电离能,其双电离能与电催化活性有一定关系。 In this paper, the thermal decomposition behavior of tetraphenyl cobalt porphyrin chemically modified electrode was analyzed by XPS, DTA and TG, which is different from that of tetraphenylferroporphyrin. The XPS spectra revealed that tetraphenyl cobalt porphyrin and glassy carbon electrode And then the relationship between the surface structure and the electrocatalytic stability of the thermally treated tetraphenyl cobalt porphyrin chemically modified electrode was illustrated.From the point of the spin split distance at Co2p_3 / 2 and 2p_ (1/2) The Shake-up with peak, to understand the heat treatment of tetraphenyl cobalt porphyrin modified cobalt spin state of cobalt electrode, and Co from the L_3VV Auger transition calculated Co ionization energy, the double ionization energy and electrocatalysis There is a certain relationship between activity.
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