【摘 要】
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用等离子体增强化学气相沉积法在低温(低于50℃)衬底上沉积Si-SiOx和Si-SiNx复合薄膜,可得到平均颗粒尺寸小至3nm的高密度(最高可达4.0×1012cm-2)纳米硅复合薄膜.500℃快速
【机 构】
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中国科学院物理研究所与凝聚态物理中心
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用等离子体增强化学气相沉积法在低温(低于50℃)衬底上沉积Si-SiOx和Si-SiNx复合薄膜,可得到平均颗粒尺寸小至3nm的高密度(最高可达4.0×1012cm-2)纳米硅复合薄膜.500℃快速退火后,这种复合薄膜显现出优异的可见光全波段光致发光特性.通过比较相同条件下所制备的纳米Si-SiOx和Si-SiNx复合薄膜的光致发光效率,发现纳米Si-SiNx具有更为优异的光致发光效率,这一点在可见光短波区表现得尤为显著.
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