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离子注人掺杂工艺已成为半导体器件和大规模集成电路生产中一项重要的技术.本文主要探讨目前集成电路工艺中,离子注入引起的晶格损伤、二次缺陷机制、以及退火对晶格损伤的影响.
离子注入引起的晶格损伤与消除措施
【摘 要】
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离子注人掺杂工艺已成为半导体器件和大规模集成电路生产中一项重要的技术.本文主要探讨目前集成电路工艺中,离子注入引起的晶格损伤、二次缺陷机制、以及退火对晶格损伤的影
【机 构】
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山东大学公共卫生学院
【出 处】
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农家科技(下旬刊)
【发表日期】
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2013年2期
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