【摘 要】
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利用射频磁控溅射的方法,在不同的衬底温度和溅射功率下制备了氧化钒薄膜样品,并在纯氩气环境下作了退火处理,用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和激光扫描共聚焦显微
【机 构】
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厦门大学萨本栋微机电研究中心,厦门大学萨本栋微机电研究中心,厦门大学分析测试中心
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利用射频磁控溅射的方法,在不同的衬底温度和溅射功率下制备了氧化钒薄膜样品,并在纯氩气环境下作了退火处理,用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和激光扫描共聚焦显微镜扫描图像,对样品进行研究.XRD分析显示退火前样品为非晶态,退火后为结晶态,并用激光共聚焦显微镜对图像做了验证.对比退火后样品的XRD图谱显示在其它条件相同时,可以通过增大溅射功率或降低衬底温度,来提高退火后薄膜样品的结晶程度,并增强V2O5(001)晶面的取向性;通过对比退火前样品的XPS谱可知在其它条件相同时,通过升高衬底温度或
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