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Si基纳米材料在半导体光电集成领域有着十分诱人的前景,脉冲激光烧蚀技术是目前材料界和分析界最有前景的技术之一.介绍了脉冲激光烧蚀沉积Si基纳米材料的基本原理,从实验和理论方面对其动力学研究现状进行了综述.
脉冲激光烧蚀沉积纳米Si膜动力学研究现状
【摘 要】
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Si基纳米材料在半导体光电集成领域有着十分诱人的前景,脉冲激光烧蚀技术是目前材料界和分析界最有前景的技术之一.介绍了脉冲激光烧蚀沉积Si基纳米材料的基本原理,从实验和
【机 构】
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河北大学物理科学与技术学院
【出 处】
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河北大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2003年3期
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