【摘 要】
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美国EG＆GICSen。（。rs公司日前推出新一代安业的一个重大工艺成就。它利用DRIE在单晶硅内形全气囊加速度计——3265型或“LISA”（横向合成硅）成一个深层结构。该结构使加速度传感
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美国EG＆GICSen。（。rs公司日前推出新一代安业的一个重大工艺成就。它利用DRIE在单晶硅内形全气囊加速度计——3265型或“LISA”（横向合成硅）成一个深层结构。该结构使加速度传感器的电容变化加速度计。该加速度计是专利产品.它将DRIE（深层增大,既简化了传感器的电子器件,
American EG & GICSen. (.rs, Inc. has introduced a significant new generation of Assymetry’s technological achievements, using DRIE as a deep structure in a single-crystal internal-air balloon accelerometer, type 3265 or “LISA” (Transverse Synthesis Silicon) Accelerometer accelerometer accelerometer. The accelerometer is a patented product. It will DRIE (deep increase, both to simplify the sensor electronics,
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