【摘 要】
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以Ti板为基体,采用异位电沉积法通过调控电镀时间制备了质量分数（δ）分别为0.02,0.28,1.39和5.65的Ti_（100-δ）Cuδ阴极;利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、电化学测试及NO_3
【基金项目】
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中央高校基本科研业务费（批准号：2015XKZD10）资助~~
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以Ti板为基体,采用异位电沉积法通过调控电镀时间制备了质量分数（δ）分别为0.02,0.28,1.39和5.65的Ti_（100-δ）Cuδ阴极;利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、电化学测试及NO_3~-处理实验等手段对其微观形貌、物相组成、电催化活性、抗腐蚀性能和产物选择性等进行了表征.结果表明,δ≥0.28时Ti_（100-δ）Cuδ电极表面的Cu镀层呈现（111）晶面择优取向,可有效提高电极稳定性;Cu活性层的形成为NO_3~-的吸附提供了活性点位,增强了电极的电催化性能,但Cu的
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