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使用纳米SiO2粉体为原料，在2．0～4．2GPa、150～1200℃范围内进行了一系列的高压高温实验研究，得到了该压力温度范围内晶化产物α-石英与柯石英的p-T相图，而且该相图中的相边界在650℃以下斜率为负，在650℃以上基本水平。通过X射线衍射仪（XRD）、Raman光谱仪（Raman）、傅立叶红外光谱仪（FT-IR）、DSC-TGA差热分析仪（TG—DTA）等表征手段，发现纳米SiO2原粉中水分（包含Si—OH和吸附水）的存在能显著降低合成柯石英的温度和时间，在4．2GPa压力下得到了目前合成柯石