原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护

来源 :腐蚀科学与防护技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：loyovue0603

【摘要】

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用光电子能谱(XPS)、红外光谱(FTIR)和扫描电镜(SEM)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺(Kapton)在模拟原子氧(AO)环境中表面所发生的侵蚀作用.结果表明,AO对Kapton有较严重的侵

【作者】

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张蕾严川伟屈庆李美栓曹楚南孙刚童静宇

【机构】

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中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,北京卫星环境工程研究所

【出处】

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腐蚀科学与防护技术

【发表日期】

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2002年2期

【关键词】

：

原子氧降解防护有机硅涂层聚酰亚胺侵蚀 Kapton atomic oxyen(AO) degradation protective

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用光电子能谱(XPS)、红外光谱(FTIR)和扫描电镜(SEM)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺(Kapton)在模拟原子氧(AO)环境中表面所发生的侵蚀作用.结果表明,AO对Kapton有较严重的侵蚀,原来平整的表面形貌变为毛毯状;而所施用的有机硅涂层的表面形貌则变化甚少,表明该涂层具有较明显的防护效果.这种防护作用在于,有机硅涂层表面经AO辐照后生成了致密的氧化硅膜层,对抑制AO的进一步侵蚀起到了关键作用.

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