论文部分内容阅读
综述了1999～2000年间国内外磁记录材料及应用的若干重要进展,包括高速度纵向磁记录介质,垂直磁记录介质,金属磁记录头材料,自旋阀磁记录读出磁头,磁光效应与磁记录.
1999—2000年磁记录材料及应用的进展
【摘 要】
：
综述了1999～2000年间国内外磁记录材料及应用的若干重要进展,包括高速度纵向磁记录介质,垂直磁记录介质,金属磁记录头材料,自旋阀磁记录读出磁头,磁光效应与磁记录.
【机 构】
：
中国科学院物理研究所
【出 处】
：
信息记录材料
【发表日期】
：
2001年3期
其他文献
浅电子陷阱技术是掺杂技术的一个分支，近年来有关它的研究和应用又开始受到人们的重视。本文简单介绍了照相乳剂颗粒中浅电子陷阱的形成及原理，并对可形成浅电子陷阱的掺杂剂的
彩色胶片的彩色摹演过程是建立在彩色学基础之上,彩色摹演质量改进须使彩色胶片的彩色摹演过程尽量接近人眼视觉感色(HEs)过程.这个过程是在电子计算机的发展基础之上,通过计
数字成像技术的日新月异推动了银盐彩色相纸的不断改进,各公司在技术创新方面表现出了不同的特色,但本文仔细分析后,不难发现,不同的创新技术之间又存在着一定的通用性与互补
在数字成像系统中,目前常用的传感器有CCD和CMOS 2种.根据CCD的特点,阐述了CCD传感器的产业化和生产工业问题.同时也介绍了CMOS成像传感器及其生产工业.