基于SIMOX材料的可集成高压器件研究

来源 :西南民族大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：gbcying

【摘要】

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通过增加一次高压注入,对0.8μm SOI CMOS工艺平台进行智能电压扩展.在SIMOX材料上设计并实现了兼容该工艺的横向高压器件,实现了低压CMOS与高压LDMOS的单片集成.在硅膜厚度

【作者】

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赵川卓碧华

【机构】

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武警成都指挥学院

【出处】

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西南民族大学学报(自然科学版)

【发表日期】

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2009年3期

【关键词】

：

SOI SIMOX 辐射高压 LDMOS SOI SIMOX radiation high voltage LDMOS

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通过增加一次高压注入,对0.8μm SOI CMOS工艺平台进行智能电压扩展.在SIMOX材料上设计并实现了兼容该工艺的横向高压器件,实现了低压CMOS与高压LDMOS的单片集成.在硅膜厚度为205nm、埋氧层厚度为375nm的SIMOX材料上,研制出阈值电压、击穿电压分别为1.3V、38V的高压LDMOS.此高低压兼容SOI技术可将高低压器件单片集成,节约了芯片成本,提高了可靠性.

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