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期刊论文
电镀板面铜丝铜粒分析探讨
电镀板面铜丝铜粒分析探讨
来源 :印制电路信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zxqqqzxq
【摘 要】
:
文章主要探讨因化学沉铜缸药水活性太高,反应剧烈,板面在化学沉铜过程中形成铜晶粒较大,导致后续图形电镀后板面形成铜丝、铜粒现象,通过试验排查及数据分析得出铜丝、铜粒产
【作 者】
:
张林武
柳汉清
张林
【机 构】
:
宏俐(汕头)电子科技有限公司
【出 处】
:
印制电路信息
【发表日期】
:
2018年2期
【关键词】
:
化学沉铜
铜丝铜粒
温度
Electroless Copper
Copper Particle
Temperature Reaction
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文章主要探讨因化学沉铜缸药水活性太高,反应剧烈,板面在化学沉铜过程中形成铜晶粒较大,导致后续图形电镀后板面形成铜丝、铜粒现象,通过试验排查及数据分析得出铜丝、铜粒产生的根源及改善方案。
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