具有10nm分辨率的3D UEMS结构

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据《Solid State Technology》2004年第8期报道,日本NTT的基础材料科学实验室宣布,他们已经成功开发出一种可以提供微机电系统(MEMS)结构使用的高速电子束刻蚀技术,而且其分辨率比传统式刻蚀技术要好若干倍。研究人员展示了在60nm DMMA According to “Solid State Technology”, No. 8, 2004, NTT’s Basic Materials Science Laboratory in Japan announced that they have successfully developed a high-speed electron beam lithography technology that provides for the use of micro-electromechanical systems (MEMS) structures, and its Resolution is several times better than traditional etching techniques. The researchers demonstrated at 60nm DMMA
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