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真空磁控溅射镀膜现在已经成为工业镀膜生产中最主要的技术之一.靶材作为磁控溅射镀膜使用的大宗原材料,其质量对膜层性能有很大的影响,同时会影响到镀膜的生产效率和成本,对大面积玻璃镀膜企业有很大的影响.本文结合生产实际使用情况,将靶材对镀膜生产影响的主要特征参数,包括靶材的密度、晶粒尺寸、纯度、与衬管(背板)连接质量等因素进行了分析和研究,并在其参数控制方面给予相关建议.