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利用磁控溅射设备制备了SS-AlN太阳光谱选择性吸收膜，用分光光度计测量样品的光谱反射曲线并与模拟计算所得到的反射曲线进行对比。结果表明：理论模拟曲线与实际测量虽不完全吻合，但其吸收率基本相同。实验测得的用脉冲磁控溅射设备的单层吸收膜吸收率a=90．81％，理论值为92．65％．可见，模拟分析能有效地预测SS-AlN膜层的光学性能。