【摘 要】
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多晶硅薄膜由于兼具稳定性、高光敏性、便于大面积沉积等优势成为目前光伏领域的研究热点。本文综述了近几年金属诱导非晶硅薄膜晶化的新工艺,介绍了各种工艺条件对多晶硅薄
【机 构】
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中国地质大学(北京)数理学院,中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,
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多晶硅薄膜由于兼具稳定性、高光敏性、便于大面积沉积等优势成为目前光伏领域的研究热点。本文综述了近几年金属诱导非晶硅薄膜晶化的新工艺,介绍了各种工艺条件对多晶硅薄膜材料的结构、金属含量的调控规律。最后展望了未来的发展趋势。
Polycrystalline silicon thin film due to the advantages of both stability, high photosensitivity, easy to large area deposition become the current research field of photovoltaic hot spots. In this paper, the recent progress of metal-induced crystallization of amorphous silicon thin films is reviewed. The regulation of the structure and metal content of the polysilicon thin films by various process conditions is reviewed. Finally, the future development trend is forecasted.
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