阵列波导光栅制作关键技术

来源 :光子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sven321

【摘要】

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介绍了阵列波导光栅(AWG)在设计中要考虑的主要结构参数,制作材料,误差来源等.论述了利用CVD制作AWG所需SiO2光波导的化学过程及其特点,给出了我们制作的光波导的测试数据.给

【作者】

：

郑国兴杜春雷邱传凯

【机构】

：

中国科学院光电技术研究所

【出处】

：

光子技术

【发表日期】

：

2004年2期

【关键词】

：

阵列波导光栅 AWG 结构参数制作材料 SiO2光波导激光直写光刻 ICP反应离子刻蚀

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介绍了阵列波导光栅(AWG)在设计中要考虑的主要结构参数,制作材料,误差来源等.论述了利用CVD制作AWG所需SiO2光波导的化学过程及其特点,给出了我们制作的光波导的测试数据.给出了通过调整局部设计数据而得到的较好面型的激光直写AWG图形.介绍了我们利用RIE刻蚀得到的AWG实验晶片和利用ICP刻蚀AWG的可行性.

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