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用双靶磁控溅射设备制备了ZnO：Fe薄膜。分析了铁靶溅射功率对薄膜的光学及电学性质的影响。X射线衍射（XRD）和原子力显微镜（AFM）图像表明：ZnO：Fe薄膜为六角纤锌矿结构，且具有非常好的沿垂直于衬底的c轴择优取向。当铁靶功率小于250W时，沉积速率随铁靶功率的增加而增加。随着铁靶功率的增加，透射光谱的吸收边有微弱蓝移，透过率在可见光区超过75％。掺铁后薄膜的电阻率只有10^-2ΩQ．cm，远小于纯氧化锌的电阻率。通过实验得到ZnO：Fe薄膜的最佳制备条件。