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在GICA117串列加速器上引出质子外束，引出窗口采用7．5μm厚Kapton膜。在外束管道前的RBS靶室中放置175nm金箔和金硅面垒探测器，可在外束PIXE分析的同时，用Au的RBS峰面积来监测束流积分。利用这一装置对古陶瓷和2幅书法作品进行分析。
外束PIXE分析装置及其初步应用
【摘 要】
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在GICA117串列加速器上引出质子外束，引出窗口采用7．5μm厚Kapton膜。在外束管道前的RBS靶室中放置175nm金箔和金硅面垒探测器，可在外束PIXE分析的同时，用Au的RBS峰面积来监测束
【机 构】
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北京师范大学低能核物理研究所,北京师范大学分析测试中心
【出 处】
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现代仪器
【发表日期】
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2007年1期
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