【摘 要】
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采用直流反应磁控溅射方法在镀有ITO的玻璃衬底上制备了ZnO荧光薄膜.通过X射线衍射(XRD)、能谱分析仪对退火前后薄膜的结晶状况和成分进行了分析,利用荧光探测单色仪对薄膜的
【机 构】
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郑州大学物理工程学院,郑州大学工程力学系
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采用直流反应磁控溅射方法在镀有ITO的玻璃衬底上制备了ZnO荧光薄膜.通过X射线衍射(XRD)、能谱分析仪对退火前后薄膜的结晶状况和成分进行了分析,利用荧光探测单色仪对薄膜的光致发光(PL)特性进行了研究.退火前后的发光峰分别位于光谱绿区499.2 nm和517.8 nm处.退火处理明显提高了绿光强度,并且使发光峰产生了红移.
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