【摘 要】
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用反应离化团束（ＲＩＣＢ）法，以低分子量聚乙烯为蒸发材料，氨气为反应气体，在ＮａＣｌ（１００）和Ｓｉ（１００）衬底上淀积Ｃ—Ｎ薄膜。透射电子衍射（ＴＥＭ）分析表明薄膜中含有β—Ｃ３Ｎ４晶粒，Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）和红外吸收谱（ＩＲ）表明薄膜中存在Ｃ、Ｎ原子
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用反应离化团束（ＲＩＣＢ）法，以低分子量聚乙烯为蒸发材料，氨气为反应气体，在ＮａＣｌ（１００）和Ｓｉ（１００）衬底上淀积Ｃ—Ｎ薄膜。透射电子衍射（ＴＥＭ）分析表明薄膜中含有β—Ｃ３Ｎ４晶粒，Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）和红外吸收谱（ＩＲ）表明薄膜中存在Ｃ、Ｎ原子的化学键合。
The RICB method was used to deposit C-N film on NaCl (100) and Si (100) substrates using low molecular weight polyethylene as the evaporation material and ammonia as the reactive gas. Transmission Electron Diffraction (TEM) analysis showed that the film contains β-C3N4 grains, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and infrared absorption spectroscopy (IR) showed the chemical bonding of C and N atoms in the film.
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