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利用射频磁控溅射法在Si衬底上制备ZnS薄膜,用X射线衍射技术对薄膜的结构相变进行研究,揭示了Si衬底上ZnS薄膜的微观结构和相变特征与溅射功率的关系,为寻找高新发光材料提供依据.
硅基硫化锌薄膜的溅射法生长技术
【摘 要】
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利用射频磁控溅射法在Si衬底上制备ZnS薄膜,用X射线衍射技术对薄膜的结构相变进行研究,揭示了Si衬底上ZnS薄膜的微观结构和相变特征与溅射功率的关系,为寻找高新发光材料提供
【机 构】
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厦门大学物理学系
【出 处】
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光电子·激光
【发表日期】
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2001年9期
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