热丝化学气相沉积（HFCVD）制备纳米晶态SiC紫外发光特性研究

来源 :中原工学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zengdf

【摘要】

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采用热丝化学气相沉积（HFCVD）技术在Si（111）衬底上生长了SiC薄膜．通过电子能谱（EDX）、X射线衍射（XRD）和时间分辨光谱等分析手段对样品结构、组分进行了分析．实验结果表明所制备的样品为

【作者】

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王辉武超汤正新尤景汉琚玮玮

【机构】

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河南科技大学理学院,中原工学院

【出处】

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中原工学院学报

【发表日期】

：

2007年4期

【关键词】

：

碳化硅纳米晶态 HFCVD PL 紫外发光 SiC nanocrystalline HFCVD PL ultraviolet emission

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采用热丝化学气相沉积（HFCVD）技术在Si（111）衬底上生长了SiC薄膜．通过电子能谱（EDX）、X射线衍射（XRD）和时间分辨光谱等分析手段对样品结构、组分进行了分析．实验结果表明所制备的样品为纳米晶态SiC，并通过计算得到验证，对所制备样品进行光致发光特性测试，观察到其在室温下有较强的紫外发光．

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