氮化镓功率器件塑封工艺技术研究

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随着科技的发展,集成电路封装的形式和材料面临着巨大挑战。氮化镓(GaN)作为最具潜力的第三代半导体材料,在射频通信领域的应用前景广阔。传统的金属或陶瓷GaN封装制造成本高、工艺复杂、品质控制难,开发环氧树脂封装的GaN射频器件,使之具备高散热性和高可靠性,实现进口产品的同类替代,是当前我国集成电路封测产业的一项重要任务。以一款GaN功率器件双边扁平无引脚封装(Dual Flat Nolead,DFN)为例,介绍GaN器件的封装结构设计、塑封材料选择、封装工艺优化以及封测中常见的问题分析与解决等内容。
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