【摘 要】
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本干涉仪是电子束曝光机之激光定位工件台的重要组成部分,它提供了 X—Y方向100×100毫米位置测量。为实现干涉系统的0.04微米测量精度,对其结构设计严格要求。本设计解决了
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本干涉仪是电子束曝光机之激光定位工件台的重要组成部分,它提供了 X—Y方向100×100毫米位置测量。为实现干涉系统的0.04微米测量精度,对其结构设计严格要求。本设计解决了干涉仪温度变形,长期稳定性,光学系统间几何位置精确调整及调后位置保持不变等问题。
This interferometer is an important part of the laser positioning stage of an electron beam lithography machine and provides position measurement of 100 × 100 mm in the X-Y direction. In order to realize the measuring precision of 0.04 micrometres of the interference system, its structural design is strict. The design solves the interferometer temperature deformation, long-term stability, precise adjustment of the optical system between the geometric position and the adjusted position remains unchanged and so on.
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