【摘 要】
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采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响。研究结果表明：非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co
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采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响。研究结果表明：非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co-P薄膜均为密排六方结构,（100）（、002）、（101）的择优取向无明显变化;但非晶无磁的Ni-P底层可以提高薄膜的均匀性和一致性,表面无明显缺陷;细化晶粒,平均晶粒尺寸为100-150nm;提高Co-P薄膜的磁性能,矫顽力可达4.54×10^4A/m。当记录信号脉冲时,与铝基体上直接施镀相比,在Ni-P底层
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