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用甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵和十六烷基三甲基溴化铵作为插层剂,采取二次插层法制备了有机化蒙脱石,并对一次插层法和二次插层法的效果进行了比较,结果表明,经过二次插层反应后,蒙脱石的层间距从1 nm左右增大至3 nm,有利于有机分子的进入和形成新的蒙脱石有机复合物.
二次插层法制备有机蒙脱石的研究
【摘 要】
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用甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵和十六烷基三甲基溴化铵作为插层剂,采取二次插层法制备了有机化蒙脱石,并对一次插层法和二次插层法的效果进行了比较,结果表明,经过二次插层
【机 构】
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西北工业大学材料科学与工程系,西北工业大学材料科学与工程系
【出 处】
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现代化工
【发表日期】
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2003年11期
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