化学还原法制备六方B-C-N化合物

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：larrytangliang

【摘要】

：

采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射（XRD）,透射电子显微镜（TEM）,选区电子衍射（SAED）,电子能量损失谱（EELS）和傅立

【作者】

：

孙广吴庆华胡前库于栋利

【机构】

：

河南理工大学材料科学与工程学院,燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室

【出处】

：

无机材料学报

【发表日期】

：

2008年5期

【关键词】

：

六方B-C-N化合物化学还原法合成 XRD 电子能量损失谱 hexagonal B-C-N compound chemical reduction synt

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采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射（XRD）,透射电子显微镜（TEM）,选区电子衍射（SAED）,电子能量损失谱（EELS）和傅立叶变换红外光谱（FTIR）对合成的样品进行了表征.分析结果表明,所合成的B-C-N化合物具有六方多晶结构,其成分为B（0.5）C（0.07）N（0.43）.

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