环丙沙星与三氟甲基丙烯酸分子印迹自组装体系的理论研究

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采用量子化学长程校正方法,以环丙沙星(CIP)为印迹分子,三氟甲基丙烯酸(TFMAA)为功能单体,研究了CIP与TFMAA单体分子印迹聚合物(MIPs)自组装体系的构型、成键作用位点、反应的结合能、作用机理及其选择性.计算结果表明,CIP印迹分子与TFMAA单体通过氢键形成分子结构互补的有序排列复合物,当印迹分子与功能单体配比(印迹比例)为1:6时,其复合物能量最低;通过模拟洗脱CIP后的复合物对恩诺沙星(ENR)、诺氟沙星(NOR)、氧氟沙星(OFL)再结合的结合能可以预测MIPs对CIP印迹分子的选择
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