【摘 要】
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The quantitative optical measurement of deep sub-wavelength features with sub-nanometer sensitivity addresses the measurement challenge in the semiconductor fabrication process.Optical scatterings from the sidewalls of patterned devices reveal abundant st
【机 构】
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SchoolofElectronicandOpticalEngineering,SchoolofElectricalandElectronicsInformationTechnology,Colleg
【基金项目】
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the National Major Scientific Instruments and Equipment Development Project under Grant No.61827814,the National Natural Science Foundation of China(NSFC)under Grant No.61501239,the NSFC International
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The quantitative optical measurement of deep sub-wavelength features with sub-nanometer sensitivity addresses the measurement challenge in the semiconductor fabrication process.Optical scatterings from the sidewalls of patterned devices reveal abundant st
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