柔性衬底ITO膜的性质与制备参数关系的研究

来源 :太阳能学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wadfgh1234

【摘要】

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用偏压磁控溅射法在水冷PPA(Polypropylene Ad ipate)聚脂胶片上制备了性能优良的ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,对薄膜的光电性质进行了研究.制备样品的相对透过率为80%

【作者】

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杨志伟韩圣浩杨田林叶丽娜马洪磊韩锡贵

【机构】

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山东大学光电材料研究所,淄博学院,山东省科学院测试中心

【出处】

：

太阳能学报

【发表日期】

：

2001年3期

【关键词】

：

光电性质溅射柔性衬底 ITO膜 Indium alloysMagnetron sputteringOptoelectronic devicesOxidesP

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用偏压磁控溅射法在水冷PPA(Polypropylene Ad ipate)聚脂胶片上制备了性能优良的ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,对薄膜的光电性质进行了研究.制备样品的相对透过率为80%左右、最小电阻率为6.3×10-4Ω cm,与衬底附着良好.当衬底负偏压为40V时,晶粒平均尺寸最大为55nm,相应地自由载流子霍耳迁移率有最大值为89.3cm2/Vs,薄膜的电阻率有最小值.X射线衍射表明薄膜为多晶纤锌矿结构,垂直于衬底的C轴具有[222]方向的择优取向,随衬底负偏压的

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