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单晶硅基底上沉积铁膜,在不同温度下用氨气对其进行刻蚀,研究温度和铁膜厚度对铁颗粒大小和分布的影响.SEM图像显示,氨气对铁膜表面具有明显的刻蚀作用,可以使铁膜刻蚀为纳米级的颗粒;刻蚀温度对于刻蚀后铁颗粒的大小和分布有非常重要的影响,刻蚀温度越高,则得到的铁颗粒越大,分布也就越稀疏;2纳米厚的铁膜在750℃下用氨气刻蚀可以得到粒径小于100nm的铁颗粒薄膜,铁膜厚度大,则得到的铁颗粒也就越大.