【摘 要】
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本文介绍了在Si_3N_4膜上制作AgCl膜的三种方法:化学沉积法、真空镀银法和真空沉积AgCl法。实验表明,三种方法制得AgCl膜的性能基本一致。AgCl/Si_3N_4膜可用来制作离子敏感
【机 构】
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江西大学物理系,江西大学物理系,江西大学化学系
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本文介绍了在Si_3N_4膜上制作AgCl膜的三种方法:化学沉积法、真空镀银法和真空沉积AgCl法。实验表明,三种方法制得AgCl膜的性能基本一致。AgCl/Si_3N_4膜可用来制作离子敏感电极,测量溶液中的Ag~+和Cl~-离子的浓度,测量范围在10~(-2)～10~(-5)M,但对Ag~+离子浓度的测量结果不够理想。
This article describes the three methods of making AgCl film on Si_3N_4 film: chemical deposition method, vacuum silver plating method and vacuum deposition AgCl method. Experiments show that the three methods of AgCl film performance basically the same. AgCl / Si_3N_4 films can be used to fabricate ion-sensitive electrodes. The concentration of Ag ~ + and Cl ~ - ions in the solution can be measured in the range of 10 ~ (-2) ~ 10 ~ (-5) M, Concentration measurements are not ideal.
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