【摘 要】
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本文针对添加剂对铜电沉积机理的影响进行了研究,并采用控制变量法研究了MPS、DDAC、Cl−对铜箔电沉积的影响,以探索MPS与DDAC对铜箔晶体择优和微观形貌的协同影响作用。结果
【机 构】
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安庆师范大学化学与化工学院,安徽铜冠铜箔集团股份有限公司
【基金项目】
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安徽省科技重大专项(18030901069),安徽省高校学科(专业)拔尖人才学术资助项目(gxbjZD202075)。
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本文针对添加剂对铜电沉积机理的影响进行了研究,并采用控制变量法研究了MPS、DDAC、Cl−对铜箔电沉积的影响,以探索MPS与DDAC对铜箔晶体择优和微观形貌的协同影响作用。结果表明,在基础镀铜液确定的条件下,MPS单独存在可以增大阴极极化和成核数密度,减小Cu2+扩散系数;DDAC可以增大阴极极化,其浓度与Cu2+扩散系数呈负相关,与成核数密度呈正相关;Cl−本身对阴极极化作用并不明显,但会改变铜电结晶过程的成核方式。MPS、DDAC和Cl−协同作用时,随着MPS浓度增加,扩散系数和成核数密度最终趋于一
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