L-丝氨酸修饰掺硼金刚石薄膜电极检测去甲肾上腺素

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ffgooo208w

【摘要】

：

采用直流等离子体喷射化学气相沉积（CVD）法制备了掺硼金刚石（BDD）薄膜电极。提出了应用L-丝氨酸修饰掺硼金刚石薄膜电极检测去甲肾上腺素,提高了去甲肾上腺素（NE）含量检测的精度。

【作者】

：

刘晓辰陈希明李晓伟曹阳

【机构】

：

天津理工大学电子信息工程学院

【出处】

：

人工晶体学报

【发表日期】

：

2014年9期

【关键词】

：

掺硼金刚石(BDD)薄膜电极循环伏安法(CVa) 去甲肾上腺素(NE) 氧化峰电流 L-丝氨酸 Boron-doped diamond（BDD） thin f

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采用直流等离子体喷射化学气相沉积（CVD）法制备了掺硼金刚石（BDD）薄膜电极。提出了应用L-丝氨酸修饰掺硼金刚石薄膜电极检测去甲肾上腺素,提高了去甲肾上腺素（NE）含量检测的精度。在浓度为2.0×10^-4mol/L的去甲肾上腺素溶液中,通过对比BDD裸电极与L-丝氨酸修饰BDD电极得出：经L-丝氨酸修饰的BDD电极的电催化氧化能力明显增强;在浓度为1.0×10^-4～1.0×10^-8mol/L的范围内,浓度的对数与氧化峰电流基本呈线性关系,且检测限为1.0×1

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