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本文总结了有机硅热控涂层的设计原理及其紫外真空降解原因,评述了涂层的国内外进展.
低太阳吸收率αs,高发射率ε有机硅热控涂层进展
【摘 要】
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本文总结了有机硅热控涂层的设计原理及其紫外真空降解原因,评述了涂层的国内外进展.
【机 构】
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航天材料及工艺研究所,沈阳师范学院
【出 处】
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宇航材料工艺
【发表日期】
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1998年3期
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