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将钠基蒙脱土(Na^+-MMT)有机化改性制成有机蒙脱土(OMMT),分别采用静态和动态熔融法制备高抗冲聚苯乙烯/有机蒙脱土(HIPS/OMMT)和高抗冲聚苯乙烯/钠基蒙脱土(HIPS/Na^+-MMT)。X射线衍射和扫描电镜研究表明,层间距由处理前的1.52nm增加为2.25nm,OMMT具有明显的分层现象;透射电镜研究表明,静态熔融插层HIPS/OM—MT形成了插层复合结构,动态熔融插层HIPS/OMMT中的OMMT片层被剥离开来,形成了剥离的HIPS/OMMT;锥形量热仪测试结果表明,静态和动态熔融