【摘 要】
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我们用等离子体阳极氧化的方法在铝表面生成厚度为40nm左右的氧化层,等离子体由射频辉光放电产生,阳极氧化时氧气压力为6.65Pa、两极间距离为18cm、直流偏压为35V,并测得氧化
【机 构】
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同济大学固体物理研究室,同济大学固体物理研究室
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我们用等离子体阳极氧化的方法在铝表面生成厚度为40nm左右的氧化层,等离子体由射频辉光放电产生,阳极氧化时氧气压力为6.65Pa、两极间距离为18cm、直流偏压为35V,并测得氧化时样品温度约在100℃左右。
We use the plasma anodization method to generate an oxide layer with a thickness of about 40nm on the surface of the aluminum. The plasma is generated by a radio frequency glow discharge. The oxygen pressure at anodization is 6.65Pa, the distance between the two electrodes is 18cm, the DC bias voltage is 35V, And measured when the sample temperature is about 100 ℃ oxidation.
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