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期刊论文
盘中孔金属浆塞孔高平整度要求工艺开发
盘中孔金属浆塞孔高平整度要求工艺开发
来源 :印制电路信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gn64954
【摘 要】
:
本文主要讲述了金属浆塞孔盘中孔平整度接近零的产品的工艺方法,以低Tg 113℃金属浆(铜浆)在FR-4材料中塞孔生产过程为范例,对比了采用正片与负片不同工艺流程生产过程中所遇到
【作 者】
:
房鹏博
李金鸿
李超谋
【机 构】
:
珠海杰赛科技有限公司,广州杰赛电子有限公司,广州杰赛科技股份有限公司
【出 处】
:
印制电路信息
【发表日期】
:
2017年10期
【关键词】
:
金属浆塞孔
低Tg铜浆
盘中孔平整度
正片
负片
Metal Paste Plug Hole
Low Tg Copper Slurry
Flatness O
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本文主要讲述了金属浆塞孔盘中孔平整度接近零的产品的工艺方法,以低Tg 113℃金属浆(铜浆)在FR-4材料中塞孔生产过程为范例,对比了采用正片与负片不同工艺流程生产过程中所遇到的问题、解决办法、难点及控制技巧。
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