浮动块硬盘磁头抛光机的运动学分析

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通过对抛光盘摩擦驱动力矩和导轮阻力矩等影响因素的仿真分析计算,研究了各因素与抛光机运动学行为的关系。结果表明,转速比是主要的运动学行为,导轮的滚动摩擦系数和偏心距对抛光机转速比的影响比较大,偏心距需要和其它抛光因素协调选择。 Through the simulation analysis and calculation of the frictional driving torque of the polishing disc and the torque resistance of the guide roller, the relationship between each factor and the kinematic behavior of the polishing machine was studied. The results show that the speed ratio is the main kinetic behavior. The influence of the rolling friction coefficient and eccentricity of the guide roller on the speed ratio of the polishing machine is relatively large. The eccentricity needs to be coordinated with other polishing factors.
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