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研究了多弧离子镀制备Ｔｉ－Ｎ膜的重要工艺参数（磁场、弧电流、偏压和氮气流量）对膜层质量的影响．详细分析了它们影响膜层特性的原因，实验证明，提高弧电流的同时抑制液滴的产生，是提高膜层质量和生产效率的有效途径。
多弧离子镀用于制备高质量的Ti—N膜
【摘 要】
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研究了多弧离子镀制备Ｔｉ－Ｎ膜的重要工艺参数（磁场、弧电流、偏压和氮气流量）对膜层质量的影响．详细分析了它们影响膜层特性的原因，实验证明，提高弧电流的同时抑制液滴的产生，是提高膜层
【机 构】
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中国兵器工业新技术推广研究所
【出 处】
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材料保护
【发表日期】
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2000年8期
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