【摘 要】
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本文应用X射线衍射分析和电子衍射分析研究了A3钢基体磁控溅射离子镀铝膜的相组成。结果表明,膜的相组成主要是基板负偏压决定的。当基板负偏压低于300V时磁控溅射离子镀铝膜
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本文应用X射线衍射分析和电子衍射分析研究了A3钢基体磁控溅射离子镀铝膜的相组成。结果表明,膜的相组成主要是基板负偏压决定的。当基板负偏压低于300V时磁控溅射离子镀铝膜是单质铝膜;当基板负偏压为500V时镀膜中心出现了Al_(13)Fe_4相;随着基板负偏压增加,膜中相继出现了Al_5Fe_2、AlFe和AlFe_3等含铁量高的Fe-Al化合物相。
In this paper, X-ray diffraction analysis and electron diffraction analysis of the A3 steel matrix magnetron sputtering aluminum coating phase composition. The results show that the phase composition of the film is mainly determined by the substrate negative bias. When the negative bias of the substrate is lower than 300V, the magnetron sputtered ion plating aluminum film is a single-layer aluminum film. When the substrate is biased at 500V, the Al_ (13) Fe_4 phase appears in the center of the coating. Al_5Fe_2, AlFe and AlFe_3 have appeared successively, such as high Fe-Al compound phase.
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