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采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜，利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析，并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究表明，激光预处理可以使SiO2单层膜在采用最大光斑条件下的损伤阈值提高1.6倍左右，并且激光预处理可清除薄膜中低阈值的缺陷。
激光预处理对SiO<sub>2</sub>单层膜中缺陷的影响
【摘 要】
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采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜，利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析，并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究表明，激光预处理可以使SiO2单层膜在采用最大光斑条件下的损伤阈值提高1.6倍左右，并且激光预处理可清除薄膜中低阈值的缺陷。
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室，上海201800中国科学院研究生院，北京100049
【出 处】
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中国激光
【发表日期】
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2010年37期
【基金项目】
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期刊
为研制真空紫外与极紫外波段Al基薄膜光学元件,详细研究了Al基薄膜的应力特性及其优化方法。利用应力实时测量装置对共溅射技术制备的5种不同Si掺杂质量分数(0、8.97%、16.49%、28.46%、45.73%)的Al-Si复合薄膜进行应力测试,并采用X射线衍射法表征薄膜的结晶状态。结果表明:Al薄膜中的应力表现为压应力,随着Si在Al中掺杂量的增加,Al中的压应力减小,并且Al的结晶度降低,Al(111)晶向的晶粒尺寸也减小,Al的结晶被抑制;当Si的掺杂质量分数从18.63%增大到31.57%时,Al
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